报告题目：光刻机投影物镜研发进展
报告时间：2020年11月3日14:00-15:00
报告地点：西汉姆联必威登录中心校区计算机楼521室
报 告 人：隋永新 研究员
报告人简介：
隋永新，男，1970年生，博士，中国科学经理春光学精密机械与物理研究所研究员，中国科学院大学博士生导师。现任长春国科精密光学技术有限公司副总经理。主要从事超精密光学加工与检测方向的技术研究，作为国家重大科技专项02专项曝光光学系统研发的主要技术负责人，在国内率先解决了亚纳米精度光学制造的技术难题。
报告内容简介：
光刻机是生成大规模集成电路的核心设备，半导体行业“皇冠上的明珠”。本报告以NA0.75国产光刻投影物镜研发历程的回顾为主线，从系统复杂度及技术极限挑战性角度，介绍我国自主研发的超精密光学系统-光刻投影物镜历程，以及研发团队在物镜超精密光学系统设计与集成、深亚纳米级精度光学制造、超精密光机结构/机构设计与装配、纳米级运动控制、装备研发等方面的技术突破情况。简要介绍更高技术挑战-高NA投影物镜系统研发进展情况以及产业化平台-北京国望光学科技有限公司人力需求情况。
主办单位：
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